カテゴリー別ニュース
2020/12/09 11:38
「中国技術でASML独占打破」、研究者が否定 
中国科学院が今年7月、半導体の回路線幅5ナノメートル（nm）製造プロセス向けの、超高精度レーザーリソグラフィ技術の開発で画期的な成果を得たと公式ホームページで発表したところ、「半導体露光装置市場で蘭…
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