2024/04/02 14:11
中国:5nmIC実現へ、北方華創が露光システム開発着手
蘭ASMLの極端紫外線(EUV)露光装置を使用せずに、中国が5ナノメートル(nm)半導体を生産する技術を開発する可能性が出てきた。この目標に向けて、半導体製造装置最大手の北方華創科技集団(ナウラ・テ…
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