2024/06/06 14:08
ASML次世代露光装置、TSMCに年内供給か
台湾積体電路製造(TSMC:2330/TW)が今年、蘭ASMLから次世代極端紫外線(EUV)露光装置「High-NA EUV」の供給を初めて受けるとの見通しを、米投資銀行ジェフリーズのアナリストが示…
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